На виробничій лінії процес висихання матеріалу під напругою не є окремим етапом виробництва – це скоріше питання термічного контролю, який необхідно точно контролювати. Якщо помилитися навіть на один градус, можуть виникнути проблеми зі зміною коефіцієнта теплового розширення, з’являються порожнини в матеріалі, і продукт опиняється серед відходів. Ми створили нашу платформу для обробки матеріалів у інфрачервоному діапазоні саме для таких умов.
Що має значення з технічної точки зору
Система забезпечує стабільність температури на рівні ±0,1°C по всій поверхні матеріалу, з можливістю контролю кожної зони окремо. У конструкції передбачений клас чистоти 1–100: використовуються матеріали з низьким вмістом газів, система повітрообміну типу HEPA, а також поверхня, яка запобігає утворенню частинок більше 0,1/см³.
Енергія у формі інфрачервоного випромінювання подається з точним контролем спектру, що дозволяє досягти швидкого висихання матеріалу без перевантаження його термічних параметрів. Для обробки фоторезисту – як при м’якій, так і при жорсткій обробці – точність контролю температури залишається в межах 0,5°C, що дозволяє контролювати критичні розміри продукту.
Чому це ефективно в промисловому виробництві
Цю платформу можна використовувати 24/7, що дозволяє зменшити кількість непланових зупинок. Термічні процеси повторюються з кожним циклом, що підвищує якість продукції та зменшує кількість необхідних корекцій. Енергоспоживання також знижується – низька термічна маса та короткий час процесу означають менше витрат енергії.
Результатом є стабільне зчеплення матеріалів, контрольована деформація та менша кількість необхідних корекцій між партіями продукції.
Що потрібно врахувати під час планування
Платформі потрібен окремий джерело живлення та стабільна вода для охолодження при заданому тиску та температурі – саме це забезпечує термічну стабільність. Інтеграція платформи в існуючу лінію є простою, але необхідно заздалегідь спланувати її розміщення. Системи повітрообміну та простір для обслуговування є обов’язковими.
Слід ставитися до цієї платформи як до пристрою для контролю процесу, а не просто як до нагрівача. Таким чином можна буде постійно підтримувати температуру на рівні ±0,1°C.