На поверхні платформи для літографії саме рівномірність температури PEB по всій площі відрізка керує процесом контролю координат та точності нанесення матеріалу на поверхню кристала. Навіть незначні зміни температури – кілька десятих градуса – можуть порушити процес хімічного посилення ефекту фотополімеру, змінити параметри біасу та селективність етчингу. Це означає, що потрібно витрачати години на процедуру експозиції та вимірювань даремно.
Що є важливим з технічної точки зору
Ми розробляємо нагрівач PEB так, щоб температура на поверхні кристала залишалась стабільною в межах ±0,1°C протягом усього процесу випалювання фотополімеру. Платформа дозволяє виконувати як помірний, так і інтенсивний процес випалювання; швидкість зміни температури контролюється, щоб уникнути коливань температури між різними партіями продукції.
Кварцово-галогенні випромінювачі забезпечують швидку та точну реакцію, а геометрія „гарячої зони“ налаштована так, щоб зберігати рівновагу між різними ділянками поверхні кристала. У чистих приміщеннях класу 1–100 ми використовуємо матеріали з низьким рівнем виділення частинок, щоб під час нормальної роботи не виникало зайвих частинок. Це дозволяє зберігати рівень частинок в заданих межах без необхідності додаткової фільтрації.
Платформа призначена для цілодобової роботи у багаторазових циклах без перерв, а енергоспоживання контролюється, щоб утримувати стабільну вартість одного кристала.
Чому цей пристрій підходить для реальних умов виробництва
Необхідно, щоб процес випалювання фотополімеру залишався стабільним як о 3 годині ранку, так і о 3 годині дня, незалежно від умов виробництва та розміру кристалів. Нагрівач PEB забезпечує стабільність у процесі випалювання, що дозволяє зберігати контроль над координатами та точністю нанесення матеріалу. Це призводить до меншої кількості необхідних корекцій, більш точного розподілу матеріалу та можливості планування часу виконання процесу.
Що потрібно знати заздалегідь
Встановлення пристрою залежить від точної інтеграції з системою теплового контролю та вентиляції. Потрібно провести коротку процедуру налаштування та картування профілю випалювання для кожної партії фотополімеру. Після цього повторюваність результатів роботи пристрою значно підвищується. Однак початкова налаштування є обов’язковою.