Cara yang tepat untuk mengeringkan wafer MEMS menggunakan teknologi IR
Jika anda menguruskan sebuah kilang pembuatan canggih, anda pasti tahu betapa pentingnya data dan kelajuan dalam proses pengeluaran. Namun, apabila melibatkan pengeringan wafer sensor MEMS, kaedah konvensional sudah tidak lagi mencukupi. Itulah sebabnya kita beralih kepada sistem inframerah (IR). Ia merupakan cara yang lebih efektif untuk menghilangkan kelembapan, tanpa merosakkan struktur mikro yang halus pada wafer tersebut.
Kekuatan haba IR
Haba gelombang pendek dari IR tidak membuang masa untuk memanaskan udara di dalam bilik. Sebaliknya, ia langsung menyerang molekul air yang terdapat pada wafer tersebut. Proses ini berlaku dengan cepat. Oleh kerana tidak perlu memanaskan keseluruhan udara di dalam bilik, stesen pengeringan akan tetap sejuk. Ini membolehkan proses pengeringan berlangsung dengan lebih cepat, dan tenaga yang digunakan juga dapat dijimatkan.
Membuatnya “pintar”
Kualiti kilang pembuatan bergantung pada kualiti data yang digunakan. Kami membina sistem pemanasan ini agar dapat berkomunikasi secara langsung dengan sistem kawalan PLC. Dengan cara ini, sensor dapat memberitahu sistem bila perlu mengurangkan kuasa yang digunakan. Dengan cara ini, anda tidak perlu risau tentang suhu yang berlebihan. Tiada siapa yang mahu menghadapi masalah wafer atau membran yang rosak kerana suhu yang terlalu tinggi. Semua ini memastikan proses pengeringan berjalan dengan lancar.
Realiti yang perlu dihadapi
Namun, ada juga kelemahan. Sistem IR berkepadatan tinggi menghasilkan haba yang sangat banyak. Jika semua tenaga tersebut disalurkan ke dalam kotak yang sempit tanpa adanya sistem pengudaraan yang baik, komponen elektronik akan rosak. Ini memerlukan keseimbangan yang tepat. Anda memerlukan pengeluar haba yang berkuasa tinggi, tetapi pada masa yang sama memerlukan sistem penyejukan yang efektif untuk mengelakkan komponen elektronik daripada terlalu panas.
Mengapa perlu bertukar?
Pemanas konvensional sangat lambat dalam memberikan reaksi. Sebaliknya, IR memberikan reaksi yang cepat. Memandangkan ia dikawal oleh sistem digital, anda boleh menyesuaikan suhu secara langsung. Tidak kira jenis wafer atau bentuk sensor yang digunakan, anda hanya perlu menyesuaikan tetapan tersebut dan meneruskan proses pengeringan. Ini dapat mengatasi masalah yang selalu timbul akibat kaedah pengeringan tradisional.