Sur la ligne de 300 mm, une fine couche d’eau qui reste après le nettoyage peut gravement nuire à la qualité du produit final. L’humidité résiduelle perturbe le profil du photo-résistant, et un séchage inégal constitue en réalité une invitation pour l’apparition de particules.
Pour remédier à cela, nous avons conçu un panneau infrarouge permettant un séchage ciblé des wafers. Ce panneau utilise de la chaleur localisée plutôt que de la chaleur diffusée, ce qui permet de sécher les wafers sans endommager la couche de photo-résistant.
Le panneau fonctionne grâce à des émetteurs infrarouges à ondes courtes, disposés en zones contrôlées indépendamment. Chaque zone assure une uniformité de température de ±0,1 °C sur toute la surface du wafer, ce qui permet de maintenir un contrôle précis de la température.
La face en quartz et le boîtier hermétique empêchent toute formation de particules, ce qui permet de respecter les normes de propreté des salles propres de classe 1 à 100. La puissance produite par chaque zone varie de 200 W à 1,2 kW, et le panneau est conçu pour fonctionner 24/7 sans interruption.
Le contrôle de la température est synchronisé avec les processus de séchage du photo-résistant, ce qui garantit un séchage uniforme. En pratique, cela signifie moins de retouches nécessaires et un contrôle plus précis des dimensions critiques. Il est possible d’augmenter la productivité sans avoir à gérer les rejets, et l’usage d’énergie est réduit, car la chaleur est appliquée uniquement là où elle est nécessaire.
Pour le séchage après nettoyage et le traitement du photo-résistant, ce panneau permet de garder les wafers secs, de conserver l’intégrité du profil du photo-résistant, et de maintenir le fonctionnement continu de la ligne de production.
L’installation est simple, mais l’alignement du panneau est crucial. Il doit être placé de manière à correspondre au trajet du wafer et à la géométrie des systèmes d’évacuation de l’air. Sinon, l’humidité risque de se reformer.
Le panneau s’intègre aux interfaces standard, mais il nécessite un système de refroidissement dédié pour maintenir une température stable des émetteurs. En planifiant correctement ce système de refroidissement, le panneau peut assurer un séchage fiable, shift après shift.