Dans le domaine de la lithographie, c’est l’uniformité de la température du PEB sur toute la surface de la wafer qui détermine réellement le contrôle de la différence de diamètre des couches et leur superposition. Même une déviation de quelques dizaines de milli-degrés peut perturber l’amplification chimique du photo-résistant, modifier les paramètres de polarisation et altérer la sélectivité de l’usinage. Cela signifie que des heures de travail peuvent être gaspillées en vain pour des raisons liées à ces fluctuations de température.
Ce qui est important sur le plan technique Nous concevons le Chauffeur PEB de manière à assurer une uniformité thermique de ±0,1 °C sur toute la surface de la wafer. La température de séchage du photo-résistant est également maintenue constante tout au long du processus de séchage. La plateforme permet tant un séchage doux qu’un séchage intense, avec des vitesses de montée en température régulières. Ainsi, il n’y a plus besoin de compenser les variations de température entre différentes séries de production.
Les émetteurs à ondes courtes à base de quartz-halogène assurent une réponse rapide et fiable. La géométrie de la zone chaude est optimisée pour garantir un équilibre uniforme entre les différentes parties de la wafer. Dans des environnements de classe 1–100, nous utilisons des matériaux à faible émission de particules, afin que le nombre de particules reste en dessous des normes, sans avoir besoin de filtres supplémentaires.
Ce système est conçu pour fonctionner 24/7 dans des usines à plusieurs tours de production, sans aucune interruption non planifiée. Le profil énergétique est géré de manière à maintenir un coût constant par wafer.
Pourquoi ce système fonctionne bien dans une usine réelle Il est nécessaire que le processus de séchage fonctionne de la même manière à 3 h du matin qu’à 15 h, quel que soit le type de traitement ou la taille de la wafer. Le chauffeur PEB permet de contrôler précisément ce processus, ce qui garantit que le contrôle de la différence de diamètre des couches et leur superposition restent dans les limites prévues. Les retards dus aux défauts de qualité diminuent, et le temps de cycle devient plus prévisible.
Ce que vous devez savoir à l’avance L’installation de ce système dépend d’une intégration étroite avec les systèmes de gestion de la température et d’évacuation de l’air de l’usine. Il est nécessaire de réaliser une mise en alignement rapide ainsi que de définir le profil de séchage pour chaque type de photo-résistant. Une fois cela fait, la répétabilité du chauffeur permet de réduire le nombre de réglages nécessaires. Mais cette phase initiale de calibration n’est pas facultative.