Na výrobní ploše může i malý posun v teplotě měkkého vypalování fotoresistu nenápadně omezit přesnost zarovnání a uniformitu kritických rozměrů....

Na litografické podlaze nejsou měkké vypalování a tvrdé vypalování pouze tepelnými kroky–nastavují expozici. Posun o 2°C přes wafer posune kritický...

Co pohání tento ohřívač Tento programovatelný elektrický ohřívač jsme navrhli s jediným cílem: surová, soustředěná síla. Pracuje na 400V a dodává...